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給湯設備:中央式給湯設備の湯温管理によるレジオネラ属菌対策

2級管工事施工管理技士(第一次検定)/上下水道・給水・給湯/第18問(全20問)問題データ更新 2026-09-13

018正誤判定中央式給湯設備の湯温管理によるレジオネラ属菌対策●○○

貯湯槽を有する中央式給湯設備のレジオネラ属菌対策に関する次の記述のうち、適当なものはどれか。

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解答正解 4

レジオネラ症を予防するための技術上の指針では、貯湯槽内の湯温を 60 ℃ 以上、末端の給湯栓でも 55 ℃ 以上となるような加熱装置を備えることとされている。レジオネラ属菌は 20〜50 ℃ 程度で増殖しやすいため、40 ℃ 程度の保持はかえって繁殖に適した条件となる。また、貯湯槽等は 1 年に 1 回以上清掃し、循環式では設備全体に湯が均一に循環するよう循環ポンプや流量弁を調整する必要がある。

選択肢ごとの判定

140 ℃ 程度はレジオネラ属菌が増殖しやすい温度域であり、抑制できない。貯湯槽内は 60 ℃ 以上とする。
2貯湯槽等の清掃は 1 年に 1 回以上行うこととされている。5 年に 1 回では不十分である。
3湯が偏って循環すると滞留部で湯温が低下し、かえって菌が繁殖しやすくなる。全体に均一に循環させる。
4正しい。貯湯槽内 60 ℃ 以上、末端の給湯栓 55 ℃ 以上が湯温管理の基本である。
根拠区分 指針出典 レジオネラ症を予防するために必要な措置に関する技術上の指針(平成15年厚生労働省告示第264号)更新 2026-09-13

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